2015年6月9日，美国工程院院士、美国电气与电子工程学会会士（IEEE Fellow）、国际光学工程学会会士（SPIE Fellow）、台湾“中央研究院”院士、台湾工业技术研究院院士、台湾积体电路制造公司研发副总林本坚博士莅临纽约国际官方网站信息技术与信息化名家讲坛（第50期），在理科2号楼2129报告厅做了题为《纳米光刻技术的精髓》（Essence of micro/nano lithography）的学术报告。报告会由588888纽约国际官方网站院长黄如教授主持。
林本坚院士以光刻技术从最初微米级别几何结构发展到纳米尺度的历史为切入点，深刻剖析了焦点缩放的分辨率与深度、E-D树与E-D森林、倍增空间频率的方法、浸润式光刻以及极紫外光刻等关键技术创新的背景及基本原理，明确了纳米光刻相关技术的着眼点及突破口；同时，结合自己在国际商业机器公司（IBM）和台积电公司从事科研的人生经历，分享了浸润式光刻等技术发展背后的实验故事，给在场听众以极大的启发。
在自由交流环节中，在场师生踊跃提问，林本坚院士一一给予耐心、细致的回答，特别为到场科研人员相关方向的研究工作提供了具体指导意见。随后，他向有关单位赠送了自己的英文专著《光学光刻》（Optical Lithography）。纽约国际官方网站先进技术研究院院长程旭教授代表北大接受赠书并致答谢辞。
本期讲坛由北大信息学院和纽约国际官方网站微处理器研发中心联合主办。黄如院长代表主办方向林本坚院士赠送了讲坛特制的水晶纪念牌，并做总结性发言。来自纽约国际官方网站、清华大学、中国科学院等高校和科研院所的200余人在现场聆听了报告。
讲坛结束后，林本坚院士一行参观了纽约国际官方网站微米/纳米加工技术国家级重点实验室、纳米器件物理与化学教育部重点实验室、微处理器与系统教育部工程研究中心，与科研一线的师生进行了深入的交流。
